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硅料的清洗办法解说(图文)

本站为您提供的硅料的清洗方法讲解(图文),  在一个行业一个产品某种意义上来说都有其一个特定性。要解决一个问题,我们首先要了解产品的来与去。就太阳能原料而言,我们从以下方面来谈它的来去,就是通常我们

  在一个职业一个产品某种意义上来说都有其一个特定性。要处理一个问题,咱们首先要了解产品的来与去。就太阳能质料而言,咱们从以下方面来谈它的往来不断,便是一般咱们说的输入。


  原生多晶:按惯例考虑,原生多晶在出产进程中,出产厂家的制品现已通过清洗处理,在拉单晶和铸多晶时,直接投入即可。但问题是:1、出产厂家处理了没有?2、出产厂家处理的成果是什么?3、在物流、贮存时有没有呈现杂质侵入等原因。一般一般厂家不定心直接运用,需求把此料进行一次酸洗后才定心。硅料外表和缝隙中压留酸分子,然后再用超声波通过循环纯水进行漂洗。还有一个问题,咱们在酸洗和漂洗进程中的硅料不或许悬空在溶液中,假如杂质刚好在两个硅料或硅料与洗篮触摸点,那不是还没洗到吗?所以一般要动一下,或许很少有人知道这动的原因,或底子没有介意。


  头尾料:在出产硅片中要对硅棒或硅锭进行切方处理,剩余的叫头尾、边皮料。由于咱们知道硅料是能够再生运用,所以切下的头尾料要再运用怎么办?那便是清洗。咱们先剖析头尾料上的杂质:1、切开后金属离子的搬运;2、切开液的残留;3、物流留下的污物。这三个问题怎样处理?切开液的残留和物流留下的污物用超声碱洗处理,金属离子用酸洗处理。


  碎片料:在咱们切片、脱胶、清洗、物流进程中,由于种种原因会发生碎片,碎片的首要特性是粘合,首要杂质为切开砂液,咱们能够运用碎片在溶液中的翻转漂浮对其别离清洗,到达它的清洁度一致性。


  埚底料:埚底料的首要去除对象是石英,在对埚底料进行处理时,应对大块石英进行打磨,然后在酸液中进行长时刻浸泡处理。


  归纳上述状况,咱们留意到了在各种不同类的状况下,要用不同工艺来处理。咱们在这洗料进程中要掌握:1、料要动2、漂要清3、流程要精确。


  其他料:除以上四种料以外还有废电池片、IC料及半导体芯片等一些硅料芯片,要对其除金属、蓝薄、银浆等前期处理。


  一、硅料的浸泡


  跟着多晶硅产能逐步添加,质料对出产商而言有更多的挑选,一起也会抛弃一些运用价值低的废料。但对处理相对简略,低本钱的可再运用料仍能够降低本钱,这些首要是坩埚底料和半导体废片料等。


  咱们在对埚底料和半制品半导体硅片进行除石英和金属电路处理上一般选用洗篮和花篮中止泡洗12小时(依据酸的浓度和份额)。这种办法是最简易和节省本钱的。问题在于中止进程中料的外表和酸反响、酸的处理才干需求长时刻渐渐开释。在此种状况下,假如参加循环泵,用于拌和酸液,缩短浸泡时刻更能起到均匀处理的效果。


  假如用以上惯例办法对小颗粒埚底料、碎电池片料和有电路半导体料进行浸泡就很难处理或许会形成更多的糟蹋。由于在处理杂质进程中,酸在料的中心点的处理才干大大削弱,而在外围酸的强度没有改动,一起也损耗硅料。针对此种状况要选用翻转式浸泡,运用浮力翻动,使得料在酸液中能进行均匀浸泡处理。


  


  



  二、硅料的碱洗


  在出产太阳能单晶多晶硅片进程中,都会发生晶棒的头尾边皮和切开后的剩余。其外表在加工进程中残留了切开液、金属离子、指纹和顺便杂质等。


  1、一般是把部分料在回用进程中需通过碱洗,从发生至清洗回用这个进程中要留意三个事项:


  A.剩余料发生到清洗时刻尽量要短;


  B.硅料尽量浸入溶液,不要裸露在空气中;


  C.操作进程中应防止指纹留在硅料上。


  2、清洗进程:


  超声碱洗→超声漂洗→超声漂洗


  3、清洗工艺:(一般状况)


  清洗槽 溶液 时刻 温度 超声功率


  超声碱洗 碱+ID 20min 60℃~80℃ 20w/升


  超声漂洗 ID 20min 常温 20w/升


  超声漂洗 ID 20min 常温 20w/升


  4、清洗的头尾边料:


  碱洗中首要清洗意图是去掉切开液和顺便物等杂质。切开下来的料放置时刻过久会添加切开液和杂质的附着力,比方用完餐的碟子上的油脂,凝结了今后清洗时刻会延伸,清洗难度也添加了。假如时刻过长、温度不宜或环境欠好还会形成氧化等化学反响,就像日常用的水龙头,常常擦拭会一向亮光,长时刻不擦拭,被氧化成斑纹等不良后果,很难康复到曾经的姿态。关于指纹的清洗工艺更难,原因有二:1、每个人排泄的手汗不同;2、每个人手指触摸的当地不同。指纹带来的杂质比较复杂,有酸性、有碱性、有油性,而且这些杂质会在料外表发生物理和化学反响。咱们对清洗没有指纹的硅料,用一种通用工艺就能够处理的。因而在清洗职业里指纹是最难清洗的一种杂质,要处理长时刻裸放的硅料咱们的工艺要添加浸泡槽,使杂质的附着力柔化。


  对有裂纹的硅料和坩底料的碱洗尽量要让纹理裂开,由于杂质或氧化物在裂纹里很难清洗洁净。假如没有氧化物在碱洗进程中碱液也会侵入到裂纹里,然后漂洗工艺里添加了难度。


  5、清洗碎片料:


  在切开、脱胶和清洗等进程中发生的碎片,一般是放在单槽或多槽超声波中清洗。此方面存在的问题在于碎片有两个平面,它们简单粘合。在粘合处的杂质、油污很难被清洗出来。通过人工来处理一方面劳动强度大,另一方面硅片会更碎,更难处理。咱们介绍的办法是把碎片放入一个特定篮筐内,让其在溶液中翻转,运用溶液浮力和篮筐的翻转让硅片在溶液中漂浮,然后到达别离,彻底清洗洁净粘合面的杂质和油污。


  要清洗洁净一种硅料首先要剖析硅料的品种,继而挑选合适的工艺和办法。没有洗不洁净的料只要不正确的洗料办法。对症下药才干事半功倍。


  



  三、硅料的酸洗


  在出产单晶棒和多晶块时,运用的硅料的纯度须到达99.9999%以上。酸洗的意图首要是去除金属离子和氧化皮,原生多晶首要是在炸料时发生,头尾埚底及碎片首要是在切开时等状况发生。


  1、酸洗办法:


  A、原生多晶在出产厂家通过清洗处理原则上不需求再进行酸洗,对一些包装损坏或有疑问的硅料依据状况挑选酸洗办法。一般选用柠檬酸或氢氟酸处理即可,若外表有氧化现象的选用混合酸洗;


  B、头尾、埚底和碎片料,铸多晶时能够选用单酸洗,拉单晶时有必要选用混合酸洗;


  C、小颗粒和碎片料在酸洗时必定要多翻动,使其充沛反响。


  2、酸洗工艺:


  A、依据不同硅料的状况装备相应的混合酸份额及挑选酸的品种;


  B、 酸反响→纯水漂洗→纯水冲刷(酸洗到漂洗要留意操控时刻防止氧化)


  3、酸洗设备:


  如今一般企业都选用二槽式手动酸洗产品:即酸槽、水槽另加冲水槽。此设备适用于一般大块硅料清洗,对小颗粒和碎片硅料清洗有必定难度。再者对操作人员要求相对较高,酸雾和酸液对操作人员的损害系数增多。考虑安全出产和为了确保产品清洁度,在此设备上做了三项工艺改善:


  A、在人员安全方面:选用了传动办法将工件篮放置在升降组织上,主动下降至酸槽,可防止酸液和酸雾对操作人员形成的损伤。处理时刻能够守时,届时主动升起。


  B、在酸雾处理方面:惯例办法是顶部吸风,致使酸雾在上升进程中易胀大,走漏到车间。选用槽体侧吸风办法,在酸雾刚发生时就进行吸雾处理,顶部吸风和后吸风加强,空气对流防止酸雾往前走漏;


  C、在均匀清洗硅料方面:在升降组织上规划一个翻转动作,硅料一进入槽体即开端翻转动作,硅料便在酸液中翻滚然后到达均匀清洗的意图。在设定的时刻内完结清洗,翻转中止,工件篮升出酸液;


  D、在纯水漂洗槽内具有相同主动升降和翻转功用,到达无死角漂洗意图。


  



  四、硅料的超声漂洗


  1、在硅料酸洗后,尽管通过了漂洗和冲刷,但在硅料的外表或缝隙等仍有或许残留酸。假如直接枯燥,残留酸会对硅料进行氧化,因而还需在酸洗后进行超声漂洗。


  2、现在一般厂家选用酸洗后通过二级超声漂洗后,烘干、包装,还有一种是在超声漂洗后,再在ID水中养一段时刻后烘干、包装。实际上这些工序要辨明硅料的品种和出产车间的环境等要素而定。对一些相对较大的硅料是能够的,可是硅料不能在酸洗车间逗留使其被酸雾污染。


  3、若想到达更好的到达超声漂洗的意图:(1)、相对大的硅料选用纯水二级反溢流;(2)、小颗粒料和片料选用纯水三级反溢流,硅料最好要翻动;(3)、超声清洗和酸洗需求阻隔;(4)、防止使金属与硅料直触摸摸发生金属离子搬运;(5)、对在同一台设备中完结酸洗、超声漂洗、枯燥的设备,其吸风体系有必要选用优秀体系。


  



  

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