构思无极限，外表大创造。今日为我们介绍一项国家创造授权专利——多个传感器
间彼此方位联系校准办法。该专利由上海微电子配备有限公司请求，并于2017年6月27日取得授权布告。
内容阐明
本创造触及集成电路制作范畴，特别触及一种多个传感器间彼此方位联系校准办法。
创造布景
投影扫描式(TFT)光刻机的意图是把掩模上图形明晰、正确地成像在涂有光刻胶的基板上，跟着基板尺度的增大，掩模、基板的形变会对套刻成果发生很大的影响，因而必须在掩模或基板上安置更多的符号。
为了提高产率，现提出一种曝光设备，该设备包含：照明体系1，掩模2、掩模台3、基板对准体系4、物镜阵列5、曝光场6、基板7以及工件台8。该光刻机体系作业时，照明体系1经过物镜阵列5将掩模2上的图画成像到基板7的每个曝光场6上，经过工件台8与掩模台3同步运动完结扫描曝光动作。掩模台3承载掩模2运动、工件台8承载基板7运动，工件台丈量体系和掩模台丈量体系别离丈量工件台8和掩模台3的方位。为了完结物镜阵列5的镜头拼接，需求选用多个掩模对准传感器一起履行掩模对准的计划。但是，因为掩模对准传感器、基板对准传感器相对于工件台8或许整机结构会发生热漂移，假如再运用原先的传感器方位联系核算掩模2相对于工件台8、基板7相对于工件台8的方位联系会引起套刻差错。
因而，怎么对多个传感器间的方位联系进行校准，成为本范畴技能人员亟待处理的一个技能问题。
创造内容
本创造供给一种多个传感器间彼此方位联系校准办法，以处理传感器间彼此方位漂移问题，然后消除该漂移对套刻的影响。
为处理上述技能问题，本创造供给一种多个传感器间彼此方位联系校准办法，经过掩模对准传感器和基板对准传感器丈量设置在工件台基准版上的基准符号，树立掩模对准传感器与基板对准传感器之间的方位联系。
图为掩模与基板方位联系的逻辑联系图
详细包含：过程1：选用掩模对准传感器对工件台基准版上的基准符号进行方位丈量;过程2：经过该基准符号上的榜首符号对掩模对准传感器进行方位标定;过程3：经过该对准符号上的第二符号对基板对准传感器进行方位标定。
作为优选，标定包含离线标定和在线标定。所述离线标定过程包含：选用干涉仪别离对每个掩模对准传感器和每个基板对准传感器进行方位标定，树立掩模对准传感器、基板对准传感器与干涉仪之间的联系;移动工件台，选用一个基板对准传感器顺次对准工件台基准版上的基准符号，并标定每个基准符号相对于工件台的方位;使榜首符号一起对准一切基板对准传感器，然后标定一切基板对准传感器的方位。
所述在线标定过程包含离轴基线更新和同轴基线更新。所述离轴基线更新包含：将一切基板对准传感器一起对准榜首符号，测得的工件台基准版的方位改变，并把在线测得的工件台基准版的方位改变补偿到所述基板对准传感器上。所述同轴基线更新包含：移动掩模台和工件台到物镜阵列下，一切掩模对准传感器丈量其各自对应的第二符号的像素值改变，然后更新所述基准符号的像素方位。两掩模对准传感器距离与两基板对准传感器距离相同。所述掩模对准传感器和基板对准传感器的摆放方向相同，均与光刻机体系的扫描方向笔直，能够测出基板内的高阶形变。所述榜首符号和第二符号部分重合
与现有技能比较，本创造经过掩模对准树立掩模与工件台的方位联系，再树立基板与工件台的方位联系，然后能够直接树立掩模与基板的方位联系，能够有用处理掩模、基板传感器间彼此方位漂移问题，然后消除该漂移对套刻的影响。
